電子材料市場研究機構(gòu)TECHCET最新數(shù)據(jù)顯示，光刻膠市場預(yù)計將在2024年反彈，同比增長7%，市場規(guī)模達到25.7億美元；2022-2027年間復(fù)合年增長率為4.1%。

TECHCET指出，受先進邏輯工藝與存儲器等新技術(shù)驅(qū)動，增長最快的細分領(lǐng)域為EUV和KrF光刻膠。此外，用于成熟制程（如i、g和KrF/248nm）的光刻膠材料也將繼續(xù)推動市場增長。隨著三星、臺積電和英特爾等公司的部分工藝制程從ArF和ArFi轉(zhuǎn)向ArFi和EUV組合，預(yù)計美光和SK海力士也將緊隨其后，EUV光刻膠產(chǎn)量不斷爬升。

負性EUV光刻膠的使用增加也在推動新的變化，例如負性溶劑的開發(fā)，以及光刻膠涂布之前的晶圓預(yù)濕潤等等，同時這類光刻膠的增長預(yù)計將會減少水溶液顯影劑和邊膠清洗的使用。

晶圓廠擴建和日韓貿(mào)易糾紛的引起的出口限制也促進了一些小型光刻膠廠商在當?shù)厥袌稣痉€(wěn)腳跟。例如日本對韓國的光刻膠出口限制（雖已取消），以及中國為了把控地緣政治引發(fā)的斷供風(fēng)險而推進國產(chǎn)化等因素，都推動了中國大陸和臺灣，以及韓國當?shù)夭牧瞎?yīng)商的本土化進程。